型号：定制设计
主要参数
三组冷却水设计，镀膜腔室可以分别操作也可以联立
4组热蒸发源，适用Au，Ag，Al，Cu，Cr，Ni，Co、SiO2、Al2O3等
3组溅射枪，适用Al，Cu，Cr，Ni、Ni，Co、CeO2，TiO2等
主要用途
阵列式镀膜设备利用真空互联管道，将热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射三台物理镀膜设备级联，避免了在多重镀膜过程中尘埃、表面氧化和吸附等污染问题。其中热蒸发擅长制备有机薄膜，电子束蒸发可以制备难以熔融的单一金属薄膜，磁控溅射可以制备多元合金和介电材料，三腔室优势互补，能够高效无损地制备薄膜材料和器件。
